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產品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設備PICOSUN P-300B型原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
產品簡介
product
產品分類PICOSUN®P-300B ALD 系統(tǒng)是專為生產 MEMS 設備(例如打印頭，傳感器和麥克風) 以及各種3D 物品(例如機械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零件和珠寶，鏡片，光學器件以及醫(yī)療設備和植入物。
該系統(tǒng)已經成為高產能ALD制造業(yè)的新標準。擁有的熱壁、獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計，確保我們可以生產出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學和光學性能的高質量ALD薄膜。高效緊湊的設計使得維護更加方便、快捷，限度的減少了系統(tǒng)的維護停工期和使用成本。擁有技術的Picoflow™使得在超高深寬比結構上沉積保形性薄膜更高效，并已在生產線上得到驗證。
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